报告题目：氧化物分子束外延:原子级薄膜构筑与前沿应用

报告时间：2026年9月4日（周二）14:30

报告地点：南京原子制造研究所14楼报告厅

报告人：聂越峰教授（南京大学）

摘要：面对新一代信息技术与前沿基础科学的战略需求，原子尺度精准构筑新型薄膜材料已成为探索新奇物态与突破应用瓶颈的重要途径。氧化物分子束外延(Oxide MBE)作为一种超高真空物理气相沉积技术，能够实现原子级的逐层生长与表界面精细调控。本报告将绍OxideMBE的基本原理与技术特点，阐述反射高能电子衍射(RHEED)在生长过程实时监控与单原子层控制中的关键作用。在此基础上，展示该技术在功能氧化物薄膜与器件中的典型应用:利用OxideMBE制备出高质量自支撑薄膜，展现出优异的应变调控自由度与丰富物态;构筑常压稳定的镍基超导薄膜，为非常规超导机制研究提供关键平台;实现晶圆级高质量钛酸钡薄膜的硅基异质外延，以其高出铌酸锂一个数量级的电光系数，支撑下一代高速光互连与光量子信息技术。

报告人简介：聂越峰，南京大学现代工程与应用科学学院材料科学与工程系教授，教育部“长江学者”特聘教授。2011年获美国康涅狄格大学物理学博士学位，随后于康奈尔大学从事博士后研究，2014年底加入南京大学。长期致力于功能氧化物薄膜的原子级精准制备与新奇物态调控，在新型铁电、多铁及高温超导等前沿领域取得了系列创新性成果，以第一或通讯作者在Nature、Nat.Mater.、Nat.Phys.、Phys.Rev.Lett.等高水平期刊发表学术论文100余篇。